解析勻膠機選購巧

該設(shè)備主要用于晶片涂光刻膠，有自動、手動和半自動三種作方式。

送片盒中的晶片，自動送到承片臺上，用真空吸附，在主軸電機的帶動下旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速100—9900轉(zhuǎn)/分（±10轉(zhuǎn)/分），起動加速度可調(diào)。每道程序的持續(xù)時間，轉(zhuǎn)速、加速度、烘烤溫度、烘烤時間、預(yù)烘時間等藝參數(shù)均可通過編程控制。

勻膠機有個或多個滴膠系統(tǒng)，可涂不同品種的光刻膠。滴膠的方式有晶片靜止或旋轉(zhuǎn)滴膠。隨著晶片尺寸的增大，出現(xiàn)了多點滴膠或膠口移動式滴膠。膠膜厚度般在500—1000nm，同晶片和片與片間的誤差小于±5nm。滴膠泵有波紋管式和薄膜式兩種，并有流量計行恒量控制。對涂過膠的晶片有上下刮邊能，去掉晶片正反面多余的光刻膠。

烘烤位，有隧道式遠紅外加熱，微波快速加熱以及電阻加熱的熱板爐等。涂膠后的晶片要按定的升溫速率行烘干。烘烤過程在密封的爐子中行，通過抽真空排除揮發(fā)出來的有害物質(zhì)。前烘結(jié)束后，將晶片送入收片盒內(nèi)。

主軸轉(zhuǎn)速的穩(wěn)定性和重復(fù)性是決定膠膜厚度均勻性和致性的關(guān)鍵，起動加速度的大小是決定是否能將不同粘稠度的光刻膠甩開并使膠均勻的決定因素。

近年來的發(fā)展趨勢是在自動作方式的勻膠機中加入預(yù)涂增粘劑（HMDS）的冷板和熱板藝模塊，以增強光刻膠和晶片的附著力。為了提生產(chǎn)率，外已經(jīng)研制出多種藝模塊意組合的積木式結(jié)構(gòu)，有的還帶有膠膜自動測量和監(jiān)控裝置。生產(chǎn)廠家有我的西北機器廠，美的Solitec、SVG、GCA和EATON等公司。

2選購巧

從其原理來說，可以看出選購勻膠機需要注意的幾個細節(jié)

旋轉(zhuǎn)速度

轉(zhuǎn)速的快慢和控制精度直接關(guān)系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標示的轉(zhuǎn)速和電機的實際轉(zhuǎn)速誤差很大，對于要求*涂覆的科研人員來說是無法獲得準確的實驗數(shù)據(jù)的。產(chǎn)的某些勻膠機只能提供轉(zhuǎn)速范圍，并不能標定實時的轉(zhuǎn)速?？诘膭蚰z機雖然大分能標定轉(zhuǎn)速，但是大分轉(zhuǎn)速精度沒有際標準認定。建議購買轉(zhuǎn)速控制方面有際認定標準的，比如：美NIST標準等。

真空吸附系統(tǒng)的構(gòu)

真空泵定要無油的，壓力標定準確，內(nèi)生產(chǎn)的無油真空泵實在不敢恭維。因為何的油污都可能堵塞真空管道，如果真空吸附力降低，會導(dǎo)致基片吸附不住而產(chǎn)生“飛片”的情況，還會讓滴膠液不慎入真空管道系統(tǒng)成堵塞。用過產(chǎn)勻膠機的客戶常常會關(guān)心怎么清洗的問題，這點許多外的勻膠機做得不錯，他們有通過聯(lián)動機制，如果真空吸附力不夠的時候，不會開始旋轉(zhuǎn)。